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簡要描述:x光鍍層測厚儀X光譜鍍層測厚儀是一款利用X射線熒光原理精準(zhǔn)測量鍍層厚度的專業(yè)設(shè)備。它通過激發(fā)鍍層元素產(chǎn)生特征X射線,分析其強(qiáng)度來確定厚度,非破壞性檢測,操作便捷。適用于電鍍、涂裝等行業(yè),能快速、準(zhǔn)確測量單層或多層鍍層厚度,為質(zhì)量控制提供可靠數(shù)據(jù),助力提升產(chǎn)品性能與品質(zhì)穩(wěn)定性。
詳細(xì)介紹
x光鍍層測厚儀
X光譜鍍層測厚儀是一款基于*X射線熒光光譜分析技術(shù)的高精度檢測設(shè)備,廣泛應(yīng)用于電鍍、涂裝、半導(dǎo)體、五金制造等眾多行業(yè),為鍍層厚度的精準(zhǔn)測量提供了可靠解決方案。
該設(shè)備的工作原理基于X射線與物質(zhì)相互作用產(chǎn)生的熒光效應(yīng)。當(dāng)高能X射線照射到樣品表面時,鍍層中的元素被激發(fā),釋放出具有特定能量的二次X射線,即特征X射線。通過精確分析這些特征X射線的能量和強(qiáng)度,設(shè)備能夠準(zhǔn)確計算出鍍層的厚度。其核心優(yōu)勢顯著,非破壞性檢測是其一大亮點(diǎn),無需切割或損壞樣品,即可獲取厚度數(shù)據(jù),保留了樣品的完整性,尤其適用于對珍貴或樣品的檢測。同時,測量速度快,能在短時間內(nèi)完成單點(diǎn)或多點(diǎn)測量,大大提高了檢測效率,滿足大規(guī)模生產(chǎn)的質(zhì)量控制需求。
X光譜鍍層測厚儀具備強(qiáng)大的功能,可測量單層、多層以及合金鍍層的厚度,還能分析鍍層的成分。其測量范圍廣泛,從納米級到毫米級的鍍層厚度均可精準(zhǔn)測量,精度高達(dá)±0.01μm,確保了測量結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。設(shè)備配備了直觀的操作界面和智能化的軟件系統(tǒng),操作人員無需具備深厚的專業(yè)知識,經(jīng)過簡單培訓(xùn)即可輕松上手。軟件還具備數(shù)據(jù)存儲、分析和報告生成功能,方便用戶對測量數(shù)據(jù)進(jìn)行管理和追溯。
在適應(yīng)環(huán)境方面,該設(shè)備表現(xiàn)出色,能夠在不同的溫度、濕度和粉塵環(huán)境下穩(wěn)定工作,適用于車間、實(shí)驗(yàn)室等多種場所。此外,設(shè)備采用了高品質(zhì)的X射線管和探測器,具有較長的使用壽命和良好的穩(wěn)定性,減少了設(shè)備的維護(hù)成本和停機(jī)時間。同時,嚴(yán)格的安全防護(hù)設(shè)計,有效防止了X射線泄漏,保障了操作人員的安全。
X光譜鍍層測厚儀以其*的技術(shù)、好的性能和便捷的操作,成為工業(yè)生產(chǎn)中鍍層厚度檢測的理想選擇,為提升產(chǎn)品質(zhì)量、優(yōu)化生產(chǎn)工藝提供了有力支持。
以下是深圳市天創(chuàng)美科技有限公司銷售的X熒光光譜儀測試電鍍鍍層的儀器詳細(xì)介紹:
鍍層檢測:
常見金屬鍍層有:
鍍層
基體 | Ni | Ni-P | Ti | Cu | Sn | Sn-Pb | Zn | Cr | Au | Zn-Ni | Ag | Pd | Rh |
Al | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
Cu | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
Zn | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
Fe | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
SUS | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
單層厚度范圍:
金鍍層0-8um,
鉻鍍層0-15um,
其余一般為0-30um以內(nèi),
可最小測量達(dá)0.001um。
多層厚度范圍:
Au/Ni/Cu : Au分析厚度:0-8um Ni分析厚度:0-30um
Sn/Ni/Cu: Sn分析厚度:0-30um Ni分析厚度:0-30um
Cr/Ni/Fe: Cr分析厚度0-15um Ni分析厚度:0-30um
鍍層層數(shù)為1-6層
鍍層精度相對差值一般<5%。
鍍層成分含量:Sn-Pb合金成分分析;Zn-Ni合金成分分析。
鍍層分析優(yōu)勢:分析PCB金手指最小尺寸可達(dá)0.2mm
單層分析精度,以Ni舉例:(相對差值)
Ni層厚度(um) | 保證精度 |
<1.0um | <5% |
1.0-5.0um | <3% |
5.0-10um | <3% |
10-20um | <3% |
>20.0um | <3% |
元素成分分析:
鍍液分析,目前常見鍍液元素分析有:金、銀、錫、銅、鎳、鉻、鋅。
ROHS 和無鹵檢測,高性能SDD探測器可以檢測無鹵,實(shí)現(xiàn)鍍層與環(huán)保一機(jī)多用。
金屬成分分析,在檢測ROHS同時可檢測金屬中其他各元素成分含量。
檢測精度:
Cr,Cd,Hg,Cu, Zn, Fe, Ni, Pb, Mn, W, Au, Ag, Sn等重金屬
檢測限達(dá)1ppm。
對這些金屬測試分析穩(wěn)定的讀取允許差值本儀器已達(dá)到下列標(biāo)準(zhǔn):
A. 檢測含量大于5%的元素穩(wěn)定的測試讀取相對差值小于1%
B. 檢測含量在0.5~5%的元素穩(wěn)定的測試讀取相對差值小于2%
C. 檢測含量在0.1~0.5%的元素穩(wěn)定的測試讀取相對差值小于5%
D. 檢測含量低于0.1%的元素測試讀取相對差值變化率小于10%
測量精度:
1)精度(單層):
測厚儀的檢測精度表
Ni層厚度(um) | 精度 |
<1.0um | <5% |
1.0-5.0um | <3% |
5.0-10um | <3% |
10-20um | <3% |
>20.0um | <3% |
測試方法: 在相同的操作條件下,對同一標(biāo)準(zhǔn)樣板進(jìn)行5次檢測,檢測到的平均數(shù)據(jù)與標(biāo)樣板的實(shí)際數(shù)據(jù)作比較。檢測精度為檢測平均值與標(biāo)準(zhǔn)樣片實(shí)際值之差(平均誤差)
2)兩層及以上:
兩層及以上的首層精度符合單層的測試結(jié)果,但是第二層以上比較復(fù)雜,要根據(jù)上面一層的厚度來決定。在一層厚度小于2um時,一層和二層的測試精度基本符合單層的精度,參照如下的測試報告 一層金標(biāo)樣厚度0.101um,第二層鎳的標(biāo)樣厚度為4.52um。
在 一層厚度在2~5um時會大大降低第二層的和第三層的測試精度,第二層的誤差率會在5~10%,第三層的誤差率小于15%。
重復(fù)性:
保證重復(fù)性值:≤±5%
重復(fù)性的檢測應(yīng)在儀器校準(zhǔn)后: 在相同的操作條件下,使用相同的檢測樣板做連續(xù)重復(fù)檢測,連續(xù)測量必須在同一檢測點(diǎn)位置使用一同樣片間隔60秒,測量一共進(jìn)行10次,每次測量值與10次平均值進(jìn)行對比。
重復(fù)性=平均誤差÷平均值×100* %.
報告打?。?/span>
可以PDF,Excel格式輸出報告,歷史數(shù)據(jù)查詢方便
安全使用,維護(hù)與保養(yǎng)
由于儀器非常精密,未經(jīng)允許情況請不要打開儀器外殼,不要對X射線源和探測器進(jìn)行改變,由用戶自身原因造成儀器損壞本公司將不負(fù)責(zé)任。
儀器安裝一定要平穩(wěn),儀器后面離墻距離不得小于30厘米,必須使用標(biāo)準(zhǔn)的220V交流電,電壓不穩(wěn)情況要配備穩(wěn)壓電源,插座必須接地良好,由用戶電源不合乎要求造成損失由用戶負(fù)責(zé)。
請不要用濕的手觸摸電源部分,帶水的手也不要碰儀器外殼以免發(fā)生觸電。
進(jìn)行測量時,因?yàn)楦唠妷毫髦罼射線源,儀器運(yùn)行時,不要嘗試打開或觸摸蓋子。由于高電壓源必須通過自動運(yùn)行或者遵循用戶指南中止。
儀器環(huán)境要求:儀器使用環(huán)境需清潔,溫度適宜15℃~30℃,濕度≤80%,電源:AC: 220V ±5V。
以上細(xì)節(jié)均有可能造成無法預(yù)測后果,買方應(yīng)予以基本遵守。
x光鍍層測厚儀
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