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臺(tái)式合金鍍層測(cè)厚儀

簡(jiǎn)要描述:臺(tái)式合金鍍層測(cè)厚儀
臺(tái)式合金電鍍鍍層測(cè)厚儀,專為精準(zhǔn)測(cè)量合金電鍍鍍層厚度設(shè)計(jì)。它采用先進(jìn)無損檢測(cè)技術(shù),如X射線熒光法等,能快速、精確獲取鍍層厚度數(shù)據(jù),精度可達(dá)微米級(jí)。設(shè)備配備高清顯示屏,操作便捷,可存儲(chǔ)大量檢測(cè)數(shù)據(jù)。廣泛應(yīng)用于電鍍廠、金屬加工等行業(yè),為產(chǎn)品質(zhì)量把控提供可靠依據(jù),助力企業(yè)提升生產(chǎn)效益。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-08-12
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詳細(xì)介紹

臺(tái)式合金鍍層測(cè)厚儀

臺(tái)式合金電鍍鍍層測(cè)厚儀:精準(zhǔn)測(cè)量,賦能品質(zhì)管控

臺(tái)式合金電鍍鍍層測(cè)厚儀是一款專為精確測(cè)量合金材料表面電鍍層厚度而設(shè)計(jì)的高精度檢測(cè)設(shè)備,廣泛應(yīng)用于電子、五金、汽車、航空航天等眾多行業(yè),為產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定與提升提供了關(guān)鍵支持。

先進(jìn)測(cè)量原理,確保精準(zhǔn)可靠

該測(cè)厚儀主要基于磁性法、渦流法或X射線熒光光譜法等原理進(jìn)行測(cè)量。磁性法適用于鐵磁性基體上的非磁性鍍層,如鋼鐵上的鋅、鎳鍍層;渦流法則用于非鐵磁性基體上的導(dǎo)電鍍層,像銅、鋁上的金、銀鍍層;X射線熒光光譜法則能對(duì)多種金屬鍍層進(jìn)行無損檢測(cè),且不受基體材料磁性和導(dǎo)電性限制。這些先進(jìn)原理的融合,確保了設(shè)備在不同材質(zhì)和鍍層組合下都能實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量,測(cè)量誤差極小,為產(chǎn)品質(zhì)量的嚴(yán)格把控提供了堅(jiān)實(shí)的數(shù)據(jù)基礎(chǔ)。

操作便捷,高效檢測(cè)

臺(tái)式設(shè)計(jì)使設(shè)備穩(wěn)定性強(qiáng),操作空間充足。儀器配備直觀的操作界面,大屏幕顯示測(cè)量數(shù)據(jù)和圖形,操作人員無需復(fù)雜培訓(xùn)即可快速上手。測(cè)量時(shí),只需將樣品放置在測(cè)量臺(tái)上,調(diào)整探頭位置,儀器即可自動(dòng)完成測(cè)量并顯示結(jié)果,大大提高了檢測(cè)效率。同時(shí),設(shè)備還具備數(shù)據(jù)存儲(chǔ)和導(dǎo)出功能,方便用戶對(duì)測(cè)量數(shù)據(jù)進(jìn)行記錄、分析和追溯,為生產(chǎn)過程的優(yōu)化和質(zhì)量改進(jìn)提供有力依據(jù)。

適應(yīng)性強(qiáng),應(yīng)用廣泛

無論是微小精密零件還是大型工件,臺(tái)式合金電鍍鍍層測(cè)厚儀都能輕松應(yīng)對(duì)。其可調(diào)節(jié)的測(cè)量范圍和多種探頭配置,能夠滿足不同厚度鍍層的測(cè)量需求。在電子行業(yè),用于檢測(cè)印刷電路板上的鍍金、鍍錫層厚度,確保電氣連接的可靠性;在汽車制造中,對(duì)汽車零部件的鍍鋅、鍍鉻層進(jìn)行測(cè)量,提高產(chǎn)品的耐腐蝕性;在航空航天領(lǐng)域,對(duì)關(guān)鍵部件的特殊鍍層進(jìn)行精確檢測(cè),保障飛行安全。

品質(zhì),穩(wěn)定耐用

設(shè)備采用高品質(zhì)的材料和先進(jìn)的制造工藝,具有良好的穩(wěn)定性和抗干擾能力,能在復(fù)雜的工業(yè)環(huán)境中長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行。同時(shí),完善的售后服務(wù)體系為用戶提供及時(shí)的技術(shù)支持和維護(hù)保養(yǎng),確保設(shè)備始終處于最佳工作狀態(tài),為用戶創(chuàng)造更大的價(jià)值。

以下是X熒光光譜儀測(cè)試電鍍鍍層的儀器詳細(xì)介紹

鍍層檢測(cè):

常見金屬鍍層有:

 鍍層

 

基體

Ni

Ni-P

Ti

Cu

Sn

Sn-Pb

Zn

Cr

Au

Zn-Ni

Ag

Pd

Rh

Al

Cu


Zn


Fe

SUS

 

單層厚度范圍:

金鍍層0-8um,

鉻鍍層0-15um,

其余一般為0-30um以內(nèi),

可最小測(cè)量達(dá)0.001um。

多層厚度范圍:

Au/Ni/Cu : Au分析厚度:0-8um      Ni分析厚度:0-30um

Sn/Ni/Cu: Sn分析厚度:0-30um      Ni分析厚度:0-30um

Cr/Ni/Fe: Cr分析厚度0-15um       Ni分析厚度:0-30um

鍍層層數(shù)為1-6層

鍍層精度相對(duì)差值一般<5%。

鍍層成分含量:Sn-Pb合金成分分析;Zn-Ni合金成分分析。

鍍層分析優(yōu)勢(shì):分析PCB金手指最小尺寸可達(dá)0.2mm

單層分析精度,以Ni舉例:(相對(duì)差值)

 Ni層厚度(um)

保證精度

<1.0um

<5%

1.0-5.0um

<3%

5.0-10um

<3%

10-20um

<3%

>20.0um

<3%

元素成分分析:

鍍液分析,目前常見鍍液元素分析有:金、銀、錫、銅、鎳、鉻、鋅。

ROHS 和無鹵檢測(cè),高性能SDD探測(cè)器可以檢測(cè)無鹵,實(shí)現(xiàn)鍍層與環(huán)保一機(jī)多用。

金屬成分分析,在檢測(cè)ROHS同時(shí)可檢測(cè)金屬中其他各元素成分含量。

檢測(cè)精度:

Cr,Cd,Hg,Cu, Zn, Fe, Ni, Pb, Mn, W, Au, Ag, Sn等重金屬

檢測(cè)限達(dá)1ppm。

對(duì)這些金屬測(cè)試分析穩(wěn)定的讀取允許差值本儀器已達(dá)到下列標(biāo)準(zhǔn):

A. 檢測(cè)含量大于5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取相對(duì)差值小于1%

B. 檢測(cè)含量在0.5~5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取相對(duì)差值小于2%

C. 檢測(cè)含量在0.1~0.5%的元素穩(wěn)定的測(cè)試讀取相對(duì)差值小于5%

D. 檢測(cè)含量低于0.1%的元素測(cè)試讀取相對(duì)差值變化率小于10%

測(cè)量精度:

1)精度(單層):

                              測(cè)厚儀的檢測(cè)精度表

Ni層厚度(um)

精度

<1.0um

<5%

1.0-5.0um

<3%

5.0-10um

<3%

10-20um

<3%

>20.0um

<3%

    測(cè)試方法: 在相同的操作條件下,對(duì)同一標(biāo)準(zhǔn)樣板進(jìn)行5次檢測(cè),檢測(cè)到的平均數(shù)據(jù)與標(biāo)樣板的實(shí)際數(shù)據(jù)作比較。檢測(cè)精度為檢測(cè)平均值與標(biāo)準(zhǔn)樣片實(shí)際值之差(平均誤差)

2)兩層及以上:

  兩層及以上的首層精度符合單層的測(cè)試結(jié)果,但是第二層以上比較復(fù)雜,要根據(jù)上面一層的厚度來決定。在一層厚度小于2um時(shí),一層和二層的測(cè)試精度基本符合單層的精度,參照如下的測(cè)試報(bào)告 一層金標(biāo)樣厚度0.101um,第二層鎳的標(biāo)樣厚度為4.52um。

    一層厚度在2~5um時(shí)會(huì)大大降低第二層的和第三層的測(cè)試精度,第二層的誤差率會(huì)在5~10%,第三層的誤差率小于15%。

重復(fù)性:

保證重復(fù)性值:±5%

    重復(fù)性的檢測(cè)應(yīng)在儀器校準(zhǔn)后: 在相同的操作條件下,使用相同的檢測(cè)樣板做連續(xù)重復(fù)檢測(cè),連續(xù)測(cè)量必須在同一檢測(cè)點(diǎn)位置使用一同樣片間隔60秒,測(cè)量一共進(jìn)行10次,每次測(cè)量值與10次平均值進(jìn)行對(duì)比。

重復(fù)性=平均誤差÷平均值×100%.

報(bào)告打印:

可以PDF,Excel格式輸出報(bào)告,歷史數(shù)據(jù)查詢方便

安全使用,維護(hù)與保養(yǎng)

由于儀器非常精密,未經(jīng)允許情況請(qǐng)不要打開儀器外殼,不要對(duì)X射線源和探測(cè)器進(jìn)行改變,由用戶自身原因造成儀器損壞本公司將不負(fù)責(zé)任。

儀器安裝一定要平穩(wěn),儀器后面離墻距離不得小于30厘米,必須使用標(biāo)準(zhǔn)的220V交流電,電壓不穩(wěn)情況要配備穩(wěn)壓電源,插座必須接地良好,由用戶電源不合乎要求造成損失由用戶負(fù)責(zé)。

請(qǐng)不要用濕的手觸摸電源部分,帶水的手也不要碰儀器外殼以免發(fā)生觸電。

進(jìn)行測(cè)量時(shí),因?yàn)楦唠妷毫髦罼射線源,儀器運(yùn)行時(shí),不要嘗試打開或觸摸蓋子。由于高電壓源必須通過自動(dòng)運(yùn)行或者遵循用戶指南中止。

儀器環(huán)境要求:儀器使用環(huán)境需清潔,溫度適宜15℃~30℃,濕度80%,電源:AC: 220V ±5V。

以上細(xì)節(jié)均有可能造成無法預(yù)測(cè)后果,買方應(yīng)予以基本遵守。



臺(tái)式合金鍍層測(cè)厚儀

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