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簡要描述:X熒光涂層鍍層測厚儀X熒光光譜儀作為涂層鍍層測厚儀,利用X射線激發(fā)涂層元素產(chǎn)生特征熒光,通過測量熒光強(qiáng)度精準(zhǔn)測定涂層厚度。它具備非破壞性、快速檢測優(yōu)勢,無需取樣,可單點(diǎn)或掃描測量,適用于金屬、合金等多種基材上的涂鍍層。操作簡便,數(shù)據(jù)準(zhǔn)確,能滿足工業(yè)生產(chǎn)中涂層厚度嚴(yán)格質(zhì)量控制需求。
詳細(xì)介紹
X熒光涂層鍍層測厚儀
X熒光光譜儀作為一種先進(jìn)的涂層鍍層測厚儀,在眾多工業(yè)領(lǐng)域中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用,為產(chǎn)品質(zhì)量控制提供了可靠的技術(shù)支持。
X熒光光譜儀基于X射線熒光分析原理。當(dāng)高能X射線照射到涂層表面時(shí),涂層中的元素原子受到激發(fā),內(nèi)層電子被擊出,產(chǎn)生電子空位。外層電子會(huì)躍遷填補(bǔ)該空位,同時(shí)釋放出具有特定能量的特征X射線熒光。通過探測和分析這些熒光的能量和強(qiáng)度,結(jié)合預(yù)先建立的校準(zhǔn)曲線,就能精確計(jì)算出涂層中各元素的含量,進(jìn)而確定涂層的厚度。
非破壞性檢測:這是X熒光光譜儀的一大突出特點(diǎn)。在測量過程中,無需對涂層進(jìn)行取樣或破壞,能夠完整保留產(chǎn)品的原始狀態(tài),特別適用于對珍貴樣品或成品的質(zhì)量檢測,避免了因取樣而造成的產(chǎn)品損壞和浪費(fèi)。
快速高效:儀器具備高速檢測能力,可在短時(shí)間內(nèi)完成對涂層厚度的測量。無論是單點(diǎn)測量還是對大面積區(qū)域進(jìn)行掃描測量,都能迅速給出準(zhǔn)確結(jié)果,大大提高了檢測效率,滿足了現(xiàn)代化工業(yè)生產(chǎn)對快速檢測的需求。
多元素分析能力:不僅可以測量單一元素的涂層厚度,還能同時(shí)分析涂層中多種元素的含量和分布情況。這對于復(fù)雜涂層體系的研究和質(zhì)量控制具有重要意義,能夠幫助用戶全面了解涂層的成分和性能。
操作簡便:X熒光光譜儀通常配備友好的用戶界面和智能化的操作軟件,操作人員無需具備深厚的專業(yè)知識(shí)和復(fù)雜的操作技能,經(jīng)過簡單培訓(xùn)即可上手操作。同時(shí),儀器還具有自動(dòng)校準(zhǔn)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)和分析等功能,進(jìn)一步簡化了檢測流程。
廣泛應(yīng)用于電子、汽車、航空航天、五金制品等行業(yè)。在電子行業(yè),用于檢測印刷電路板上的鍍層厚度,確保電路的性能和可靠性;在汽車制造中,對車身零部件的涂層厚度進(jìn)行嚴(yán)格監(jiān)控,提高汽車的耐腐蝕性和外觀質(zhì)量。
以下是X熒光光譜儀測試電鍍鍍層的儀器詳細(xì)介紹:
鍍層檢測:
常見金屬鍍層有:
鍍層
基體 | Ni | Ni-P | Ti | Cu | Sn | Sn-Pb | Zn | Cr | Au | Zn-Ni | Ag | Pd | Rh |
Al | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
Cu | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
Zn | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | |
Fe | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
SUS | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● | ● |
單層厚度范圍:
金鍍層0-8um,
鉻鍍層0-15um,
其余一般為0-30um以內(nèi),
可最小測量達(dá)0.001um。
多層厚度范圍:
Au/Ni/Cu : Au分析厚度:0-8um Ni分析厚度:0-30um
Sn/Ni/Cu: Sn分析厚度:0-30um Ni分析厚度:0-30um
Cr/Ni/Fe: Cr分析厚度0-15um Ni分析厚度:0-30um
鍍層層數(shù)為1-6層
鍍層精度相對差值一般<5%。
鍍層成分含量:Sn-Pb合金成分分析;Zn-Ni合金成分分析。
鍍層分析優(yōu)勢:分析PCB金手指最小尺寸可達(dá)0.2mm
單層分析精度,以Ni舉例:(相對差值)
Ni層厚度(um) | 保證精度 |
<1.0um | <5% |
1.0-5.0um | <3% |
5.0-10um | <3% |
10-20um | <3% |
>20.0um | <3% |
元素成分分析:
鍍液分析,目前常見鍍液元素分析有:金、銀、錫、銅、鎳、鉻、鋅。
ROHS 和無鹵檢測,高性能SDD探測器可以檢測無鹵,實(shí)現(xiàn)鍍層與環(huán)保一機(jī)多用。
金屬成分分析,在檢測ROHS同時(shí)可檢測金屬中其他各元素成分含量。
檢測精度:
Cr,Cd,Hg,Cu, Zn, Fe, Ni, Pb, Mn, W, Au, Ag, Sn等重金屬
檢測限達(dá)1ppm。
對這些金屬測試分析穩(wěn)定的讀取允許差值本儀器已達(dá)到下列標(biāo)準(zhǔn):
A. 檢測含量大于5%的元素穩(wěn)定的測試讀取相對差值小于1%
B. 檢測含量在0.5~5%的元素穩(wěn)定的測試讀取相對差值小于2%
C. 檢測含量在0.1~0.5%的元素穩(wěn)定的測試讀取相對差值小于5%
D. 檢測含量低于0.1%的元素測試讀取相對差值變化率小于10%
測量精度:
1)精度(單層):
測厚儀的檢測精度表
Ni層厚度(um) | 精度 |
<1.0um | <5% |
1.0-5.0um | <3% |
5.0-10um | <3% |
10-20um | <3% |
>20.0um | <3% |
測試方法: 在相同的操作條件下,對同一標(biāo)準(zhǔn)樣板進(jìn)行5次檢測,檢測到的平均數(shù)據(jù)與標(biāo)樣板的實(shí)際數(shù)據(jù)作比較。檢測精度為檢測平均值與標(biāo)準(zhǔn)樣片實(shí)際值之差(平均誤差)
2)兩層及以上:
兩層及以上的首層精度符合單層的測試結(jié)果,但是第二層以上比較復(fù)雜,要根據(jù)上面一層的厚度來決定。在一層厚度小于2um時(shí),一層和二層的測試精度基本符合單層的精度,參照如下的測試報(bào)告 一層金標(biāo)樣厚度0.101um,第二層鎳的標(biāo)樣厚度為4.52um。
在 一層厚度在2~5um時(shí)會(huì)大大降低第二層的和第三層的測試精度,第二層的誤差率會(huì)在5~10%,第三層的誤差率小于15%。
重復(fù)性:
保證重復(fù)性值:≤±5%
重復(fù)性的檢測應(yīng)在儀器校準(zhǔn)后: 在相同的操作條件下,使用相同的檢測樣板做連續(xù)重復(fù)檢測,連續(xù)測量必須在同一檢測點(diǎn)位置使用一同樣片間隔60秒,測量一共進(jìn)行10次,每次測量值與10次平均值進(jìn)行對比。
重復(fù)性=平均誤差÷平均值×100* %.
報(bào)告打?。?/span>
可以PDF,Excel格式輸出報(bào)告,歷史數(shù)據(jù)查詢方便
安全使用,維護(hù)與保養(yǎng)
由于儀器非常精密,未經(jīng)允許情況請不要打開儀器外殼,不要對X射線源和探測器進(jìn)行改變,由用戶自身原因造成儀器損壞本公司將不負(fù)責(zé)任。
儀器安裝一定要平穩(wěn),儀器后面離墻距離不得小于30厘米,必須使用標(biāo)準(zhǔn)的220V交流電,電壓不穩(wěn)情況要配備穩(wěn)壓電源,插座必須接地良好,由用戶電源不合乎要求造成損失由用戶負(fù)責(zé)。
請不要用濕的手觸摸電源部分,帶水的手也不要碰儀器外殼以免發(fā)生觸電。
進(jìn)行測量時(shí),因?yàn)楦唠妷毫髦罼射線源,儀器運(yùn)行時(shí),不要嘗試打開或觸摸蓋子。由于高電壓源必須通過自動(dòng)運(yùn)行或者遵循用戶指南中止。
儀器環(huán)境要求:儀器使用環(huán)境需清潔,溫度適宜15℃~30℃,濕度≤80%,電源:AC: 220V ±5V。
以上細(xì)節(jié)均有可能造成無法預(yù)測后果,買方應(yīng)予以基本遵守。
X熒光涂層鍍層測厚儀
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